需求背景:在半导体材料领域，高纯度电子气体作为是集成电路制造的“血液”，是国产代替重要环节，也是急需国产化的产品。高纯度气体纯化设备决定了集成电路的性能、集成度、成品率。纯化设备若不合格会导致产品严重缺陷，或整条生产线被污染乃至全面瘫痪。进口高端装备的研发与国产化替代迫在眉睫，关键技术、核心装备、核心材料均需要自主创新研究。高纯度气体提纯和生产的关键技术、核心装备、关键材料，以及技术的创新升级与智能化，对半导体行业的发展和芯片的性能有重要的作用，是生产高端芯片、核心关键零件的基础工艺条件。采用自主研发技术替代进口，实现气体纯化关键技术和核心材料的自主创新和国产化，对我国半导体等行业由重要意义。
需解决的主要技术问题:基于自主创新研发生产半导体、光伏光纤、LED面板及化工、医药行业所用的高纯度气体纯化生产设备、关键技术、核心材料，使其提纯纯度达到9N级（国际最高标准版）或者更高，用来替代国外进口气源或者生产装备，填补国内空白。
拟实现的主要技术目标：气体纯度≥9N;生产工艺国产化；主体装备国产化；关键核心吸附材料国产化；装备和材料的使用寿命和次数达到国际先进水平。