刘鹏博士
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详细 · 介绍
Expert introduction
教育背景
北京大学 微电子学与固体电子学 博士
北京科技大学 物理电子学 硕士
工作经历
北京大学 微电子学与固体电子学 博士
北京科技大学 物理电子学 硕士
研究成果
Optimization of photoresist development and DRIE processes to fabricate high aspect ratio Si structure in 5 nm scale, J.M.M. 2019
Hard mask free DRIE of crystalline Si nanobarrel with 6.7nm wall thickness and 50:1 aspect ratio, IEEE MEMS 2015 (Best Paper Final List Award)
国际专利1项，国内专利2项
负责基金项目3项；技术负责NSFC重大研究计划1项，重点研发计划1项
